作為科里奧利效應(yīng)的實(shí)際應(yīng)用，科里奧利質(zhì)量流量計(jì)的工作原理是使得有介質(zhì)流經(jīng)的流量管發(fā)生振動(dòng)。盡管振動(dòng)并非完整的圓形，仍形成了旋轉(zhuǎn)坐標(biāo)系統(tǒng)，從而引發(fā)科里奧利效應(yīng)。傳感器檢測(cè)并分析流量管頻率、相位差和振幅的變化。具體的檢測(cè)方法會(huì)因流量計(jì)設(shè)計(jì)不同而不同。這些被觀測(cè)到的變化代表了流體的質(zhì)量流量和密度。質(zhì)量流量測(cè)量：測(cè)量管在力的作用下發(fā)生擺動(dòng)，從而產(chǎn)生正弦波。流量為零時(shí)，兩根管道同相地發(fā)生振動(dòng)。有流量時(shí)，科里奧利力促使管道發(fā)生彎曲，從而引發(fā)相偏移。測(cè)量正弦波之間的時(shí)差，此時(shí)差與質(zhì)量流量成正比。
質(zhì)量流量控制器 (Mass Flow Controller 縮寫(xiě)為 MFC) 用于對(duì)氣體的質(zhì)量流量進(jìn)行精 密測(cè)量和控制。它們?cè)诎雽?dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、 環(huán)保和真空等多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的作用。其典型的應(yīng)用場(chǎng)合包括：電子工藝 設(shè)備，如擴(kuò)散、外延、CVD、氧化、等離子刻蝕、濺射、離子注入；以及鍍膜設(shè)備、光纖熔 煉、微反應(yīng)裝置、混氣配氣系統(tǒng)、毛細(xì)管測(cè)量、氣相色譜儀及其他分析...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:38:06
XD mass 系列是一款模擬數(shù)字兼容模式的儀表，可通過(guò)模擬數(shù)顯控制儀或儀表面板調(diào)節(jié)，或者 PLC 進(jìn)行設(shè)定和顯示瞬時(shí)流量，此款產(chǎn)品應(yīng)用了 MultiFlow 技術(shù)，可內(nèi)置多種氣體。可以適應(yīng)多種量程。廣泛應(yīng)用于各種大流量測(cè)量及控制場(chǎng)合。...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:33:06
LL -D mass 系列是一款模擬數(shù)字兼容模式的儀表，可通過(guò)模擬數(shù)顯控制儀或儀表面板調(diào)節(jié)，或者 PLC 進(jìn)行設(shè)定和顯示瞬時(shí)流量，此款產(chǎn)品應(yīng)用了 MultiFlow 技術(shù)，可內(nèi)置多種氣體, 可以適應(yīng)多種量程?？筛罅Χ鹊臏p少采購(gòu)成本。...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:29:40
A mass 系列是一款利用層流束式熱分布技術(shù)直接測(cè)量氣體的質(zhì)量流量。無(wú)需進(jìn)行溫度、壓力校正。設(shè)計(jì)精密、成本較低的產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于不同的領(lǐng)域。...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:23:43
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介 LL-DS質(zhì)量流量控制器是采用高靈敏度的MEMS傳感器直接在管道內(nèi)測(cè)量流量，沒(méi)有層流件和壓損，并且反應(yīng)速度快，漂移小。解決了傳統(tǒng)熱式流量計(jì)的先天性缺陷;長(zhǎng)期加熱的工作模式產(chǎn)生的熱漂移，反應(yīng)速度慢等。對(duì)于腐蝕和結(jié)晶的應(yīng)用，還可以選擇使用不銹鋼傳感器的規(guī)格。 LL-DS質(zhì)量流量控制器為模擬和數(shù)字兼容型設(shè)計(jì);可通過(guò)模擬型二次表和PLC進(jìn)行設(shè)定和顯示瞬時(shí)流量，也可通過(guò)數(shù)字接口直接與計(jì)算機(jī)...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:17:59
LL質(zhì)量流量控制器 (Mass Flow Controller 縮寫(xiě)為 MFC) 用于對(duì)氣體的質(zhì)量流量進(jìn)行精密測(cè)量和控制。它們?cè)诎雽?dǎo)體和集成電路工業(yè)、特種材料學(xué)科、化學(xué)工業(yè)、是有工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空燈多種領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中有著重要的作用。其典型的應(yīng)用場(chǎng)合包括：電子工藝設(shè)備，如擴(kuò)散、外延、CVD、氧化、等離子刻蝕、濺射、離子注入；以及鍍膜設(shè)備、光纖熔煉、微反應(yīng)裝置、混氣配氣系統(tǒng)、毛細(xì)管測(cè)量、氣相色譜儀及其他分析...
更新時(shí)間：2021-08-31 07:02:38
